據(jù)了解，專利申請文件的撰寫水平已成為制約我國專利申請的一個“瓶頸”。我國由于專利的撰寫水平低，包括一些專利代理機構(gòu)的撰寫水平都很有限，明明只是一部分專利范圍需要保護，但在撰寫的說明中卻擴大了專利保護范圍，導(dǎo)致專利申請失敗。本書由于通俗易懂、針對性強、受到發(fā)明人、專利代理人資格考試應(yīng)試者、專利工作者等人的好評。本次修訂除保留了原有的優(yōu)點外，還增加了現(xiàn)時一些典型的撰寫實例，糾正了少量不準確的用語，更好地滿足讀者需求。
本書依照2001年實施的《中華人民共和國專利法》、《中華人民共和國專利法實施細則》以及《審查指南2001》，系統(tǒng)、詳盡地介紹了發(fā)明、實用新型和外觀設(shè)計專利申請文件的撰寫方法和技巧；書中介紹了如何答復(fù)審查意見通知書，并提供了實例。書中通過實際案例的剖析深入淺出地講解了權(quán)利要求書、說明書和說明書摘要撰寫方法，以及如何繪制說明書附圖和外觀設(shè)計圖片，并指出了撰寫專利申請文件中常見的錯誤，還指明了應(yīng)當注意的事項。讀者通過認真閱讀本書，便可動筆撰寫出專利申請文件。
本書是作者多年從事專利申請文件撰寫、教學及專利代理實踐的結(jié)晶，本書理論聯(lián)系實際，針對性強，可有效地解決初學者在撰寫中遇到的疑難問題。書中還提供了大量的撰寫實例，便于讀者有針對性地查閱、參考。本書既可以作為廣大讀者的參考書，也可作為培訓教材之用。
讀者對象：專利代理人、發(fā)明愛好者、理工科大學師生、工程技術(shù)人員、法律工作者和科技管理人員等。
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